ALD PLD用高濃度臭氧發(fā)生器    SD H30

加拿大SD H30 臭氧發(fā)生器，適用于需要高濃度臭氧的實驗室應用，ALD、PLD、MBE、CVD等；以及任何含臭氧的水處理應用，因為臭氧在高濃度下具有高溶解度。

SD H30臭氧發(fā)生器是一款專為半導體和ALD（原子層沉積）應用設計的高效臭氧發(fā)生器。其主要特點包括：

高臭氧產(chǎn)量：僅需4 SLPM氧氣即可產(chǎn)生30 g/h的臭氧，適合高濃度需求。

高臭氧濃度：臭氧濃度可達22 wt%（310 mg/L），滿足半導體和ALD實驗的高純度要求。

低流量氧氣需求：僅需4 SLPM氧氣，節(jié)省氣源成本。

耐壓范圍廣：標準耐壓15-35 PSI，可選高壓15-85 PSI，適應多種實驗條件。

模塊化設計：支持臺式或機架安裝，可擴展至5 kg/h以上。

緊湊尺寸：體積小巧（35.5*38*17.8 cm），適合實驗室空間有限的環(huán)境。

風冷設計：無需冷卻水，在高溫環(huán)境（+35℃）下也能穩(wěn)定運行。

遠程控制：支持遠程臭氧輸出控制，操作便捷。

ALD PLD用高濃度臭氧發(fā)生器特點

高純度臭氧輸出：該設備通常具備高精度的臭氧濃度控制，確保臭氧純度，適合對氣體純度要求高的實驗。

穩(wěn)定性和可靠性：采用先技術(shù)和高質(zhì)量材料，確保長時間穩(wěn)定運行，減少實驗中斷風險。

精確控制：具備精確的流量和濃度控制功能，滿足ALD實驗中對氣體流量和濃度的嚴格要求。

低維護成本：設計上注重耐用性和易維護性，降低長期使用中的維護和更換成本。

安全性：配備多重安全保護機制，如過載保護、泄漏檢測等，確保實驗安全。

緊湊設計與易安裝性：小巧尺寸和模塊化設計適合空間有限的實驗室環(huán)境。

風冷技術(shù)：無需冷卻水，降低運行成本，適合長期使用。

技術(shù)支持與售后服務：北京同林提供完善的技術(shù)支持和售后服務，幫助用戶解決使用中的問題。

相關(guān)型號

高濃度版 SD H30

耐高壓版 SD P30